Установки плазменного травления

     Установка реактивного ионно-плазменного травления RIE 150 VEGA – безупречная повторяемость процессов плазмохимического травления. Лучшая цена на установки плазменного травления!

Назначение

Ионно-плазменное травление диэлектрических слоев. Установка реактивно ионного травления предназначена для проведения травления диэлектрических слоев, полимеров и металлов. Специальная возможность создания темной плазмы.

Установка позволяет работать с подложками неправильной формы, кусочками и пластинами размером до 250 мм при этом сохраняя равномерность травления по всему диаметру рабочей зоны травления. Оснащена шлюзовой камерой для загрузки/выгрузки подложек, независимыми высоковакуумными откачными системами для основной и шлюзовой камер. Полностью безмасляные средства откачки в коррозионно-стойком исполнение. Обладает характеристиками:

• высокая степень вакуума до 10-7 мбар;
• регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности источника плазмы;
• равномерность травления по толщине не хуже ±2%;
• мощный генератор плазмы 600 Вт, 13,56 МГЦ;
• контроль за окончанием процесса осуществляется с помощью оптического спектрометра с набором фильтров или масс-спектрометра.

Общие характеристики

Форма камеры: кубическая, с передней дверью

Материал камеры: алюминий

Размеры камеры: 300 x 300 x 300 мм

Количество электродов: 1, водяное охлаждение

Размер электрода: 200 x 200 мм

Максимальные размеры подложки: 150х150 мм

Камера оснащена смотровым окном для визуального контроля процесса

Внешние габаритные размеры (без учета шлюзовой камеры): 800 мм x 1100 мм x 1500 мм (Ш x Г x В)

Электропитание: 3/Н/ПЭ переменного тока 50/60 Гц, 400/230 в

Камера выполнена из алюминия и обеспечивает проведение процессов травления пластин диаметром 100 мм, 150 мм, подложками неправильной формы, пластинами, кусочками.

Плазменный источник выполнен в виде цилиндрической спирали и иметь трансформаторную развязку от земли.

Продолжительность переходных процессов при смене газов составляет не более 0,5 с.

Обеспечена возможность:

−          поддержания стабильного ВЧ разряда в диапазоне давлений 5-13 Па;

−          подключения кожуха плазменного источника к системе вытяжной вентиляции.

Электрод-подложкодержатель обеспечивает водяное охлаждение размещаемой на нем пластины и системы электромеханического поджима пластины. Возможно исполнение с гелиевым охлаждением.

Камера обеспечивает возможность поддержания и регулирования температуры подложкодержателя в диапазоне 10÷50 °C.

 

Пульт-стойка управления подачей газа

Газораспределительная система позволяет автоматически управлять 3 линиями для технологических газов. Поток газа контролируется расходомерами с цифровым регулированием (MFC). Каждая газовая линия включает в себя электропневматические 3-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном и ручные 2-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном. Стандартные расходомеры MFCs 100 см³/мин O₂, 100 см³/мин Ar, 100 см³/мин CF₄, 100 см³/мин SF₆, и 50 см³/мин C₂H₄.

Три регулятора расхода, каждый с запорным клапаном (O2, CF4, N2) (Производитель BRONKHORST HIGH-TECH B.V., Нидерланды). Обеспечивается однородное газораспределение.

Имеет не менее пяти независимых каналов рабочих газов и обеспечивать возможность подачи в рабочую камеру следующих газов: SF6, хладон 14, O2, Ar, He. (согласовывается)

Каждый канал газовой системы укомплектован:

−          прецизионным цифровым регулятором расхода газа (РРГ);

−          ручным запорным клапаном;

−          регулятором давления;

−          электромагнитным клапаном.

Максимальное время переключения между газами составляет не более 0,5 с.

 

Мощностный источник ВЧ генератора

Обеспечивает передачу мощности на плазменный источник. Выходная мощность составляет 600 Вт на частоте 13,56 МГц. Имеет цифровой интерфейс управления (для работы в автоматическом режиме).

Охлаждение - воздушное

Автоматическое устройство согласования установлено между ВЧ генератором и плазменным источником и обеспечивает согласованную работу ВЧ генератора и плазменного источника на стадии поджига и горения плазмы.

Производство – Barthel HF-Technik GmbH, Германия.

Программное обеспечение

 

Вакууметры

Форвакуумная линия: датчик TPR Pfeiffer (датчик Пирани)

Вакуумная камера: датчик CMR Pfeiffer (емкостный датчик)

Высоковакуумная линия: датчик PKR Pfeiffer (датчик Пирани / с холодным катодом)

 

Вакуумная система

Высоковакуумная безмасляная откачная система, не требующая обслуживания. Коррозионностойкий турбомолекулярный насос производительностью 300 л/с, безмасляный коррозионностойкий винтовой насос производительностью 60 м3/час, швейцарская запорно-регулирующая и дросселирующая арматура фирмы VAT, немецкие емкостные датчики вакуума.

Предельный уровень вакуум до 10^{- 7} мбар.

Форвакуумный насос: Edwards XDS35i для коррозионных газов.

Турбомолекулярный насос: HiPace 300 C Pfeiffer (производительность 300 л/с) для коррозионных газов.

Управление давления: клапан-бабочка DN 100 VAT

Вентилирование: клапан вакуума Pfeiffer электромагнитно управляемый

Форвакуумный насос: Edwards XDS35i                        Турбомолекулярный насос: HiPace 300 C Pfeiffer (

 

 

Система управления

Полностью автоматическая система управления на базе ПК. Управление установкой возможно как в ручном, так и в автоматическом режиме (включая ОДН-кнопк-деятельность).

Система позволяет регулировать параметры реципиента (подачи газа, силу, время), сигнала тревоги и регистрации данных. Эксплуатируется через ПК панели, оборудованным TFT-экраном касания.

Функции обеспечения безопасности:

- главный переключатель с функцией аварийного выключения

- блокировка генератора

- блокировки для подачи воды, давления

 

Шлюзовая камера

Материал камеры: алюминий

Размер камеры: 300 x 300 x 100 mm3

Форвакуумный насос: Edwards XDS35i для коррозионных газов.

Вакууметр TPR Pfeiffer (датчик Пирани)

Клапан нагрузки - замка: клапан VAT прямоугольный

Загрузка подложки: вручную, оператором установки.

Шлюзовая камера обеспечивает возможность предварительной откачки внутреннего объема и последующей загрузки/выгрузки пластин в рабочую камеру. Позволяет не разгерметизировать рабочую камеру, обеспечивает чистоту процесса.

Шлюзовая камера снабжена:

−          безмаслянным форвакуумным насосом производительностью;

−          высоковакуумным насосом;

−          запорно-регулирующей арматурой;

−          автоматическим механизмом загрузки/выгрузки пластин.

 

Шкаф управления

Компактный встроенный на общем каркасе установке. Выполнен в виде отдельно блока управления (дисплея) и имеет в составе элементы микропроцессорной системы управления, источники питания и управления элементов установки. Монитором с сенсорным дисплеем, обеспечивающим возможность управления установкой, создания и редактирования рецептов процессов травления, контроля основных параметров установки.